Nano-Tec titanium nitride coated microscope slide, 75 x 25 x 1mm, 50nm TiN, 10 ks/bal

Nano-Tec titanium nitride coated microscope slide, 75 x 25 x 1mm, 50nm TiN, 10 ks/bal. Substráty potažené nitridem titanu jsou k dispozici jako křemíkový plátek a mikroskopické sklíčko Ø 4”/100 mm, potažené 50nm čistým nitridem titanu (99,995 %). Tenké filmy z nitridu titanu (TiN) mají vynikající tepelnou a biologickou stabilitu, pevnost a odolnost proti korozi v extrémních podmínkách. TiN se často nanáší jako účinný tvrdý povlak na ocelové, karbidové a hliníkové součásti. Používá se také k ochraně kluzných povrchů, jako tribologická vrstva pro řezné nástroje a je to vynikající netoxický povlak, který se nachází v biomedicínských zařízeních. Tenkovrstvý TiN se také používá v mikroelektronice, kde slouží jako kovová i křemíková difúzní vrstva a jako vynikající vodivé spojení mezi aktivními zařízeními a kovovými kontakty.
Pro tento povlak se používá účinná nízkoteplotní metoda pro nanášení ultračistých, vysoce hustých a vodivých tenkých vrstev TiN (~ 50-70 µΩ·cm) na skleněné a silikonové substráty. Toho je dosaženo pomocí nové technologie reaktivního bipolárního vysokovýkonného impulsního magnetronového naprašování (Bi-HiPIMS). HiPIMS využívá pulzní energii při velmi vysoké špičkové hustotě výkonu, která poskytuje vysokou ionizaci naprašovaných látek. Kladné zpětné napětí je aplikováno bezprostředně po normálním negativním HiPIMS pulzu („Bipolární“ HiPIMS), které urychluje tyto ionty směrem k povrchu substrátu a současně je vystavuje reaktivnímu plynu N2. Toto bombardování ionty na povrchu rostoucího filmu je nezbytné pro vytvoření vysoce kvalitního a hustého povlaku TiN, aniž byste se museli spoléhat na extrémní teploty, které jsou často vyžadovány u tradičnějších metod naprašování. Povlak z nitridu titanu není atomicky plochý; existují výškové rozdíly v rozsahu nm. Pro ochranu jsou destičky baleny do obalů na destičky a sklíčka jsou balena do poštovnáích poouzder.

Specifikace:

TECHNICKÉ PARAMETRY