Používáním tohoto webu souhlasíte s využíváním cookies na těchto stránkách. Více informací ZDE. Rozumím

Podložní filmy na bázi křemíku (Silicone based support films)

Membrány z nitridu křemíku se používají v aplikacích, kde není vhodné používat podložní filmy uhlíkové nebo plastové. Tyto membrány jsou extrémně rovné a hladké, což významně redukuje potřebu přeostřování při procházení přes větší oblasti. Tyto membrány mají vysokou stabilitu pod elektronovým svazkem. Jsou relativně chemicky inertní, odolávají většině chemikálií s výjimkou zředěné HF, horké H2SO4 a volného fluoru. Velká mechanická stabilita těchto membrán dovoluje použití velkého množství mikroskopických technik, jako TEM, SEM a AFM, pro provádění různých experimentů v oblasti nanotechnologií. Na tyto podložní filmy můžeme přímo umístit buňky, vlákna a částice.

Dodávají se na podložkách z křemíků, které jsou vyrobeny tak, aby se daly přímo vložit do standardního držáku TEM pro síťky o průměru 3mm. Podložní rámečky mají různě velká odleptaná okénka, která dovolují přímý průhled elektronového svazku přes podložní film z nitridu křemíku. Tloušťka nabízených membrán se pohybuje od 10nm do 500nm. Tyto membrámy se vyrábějí v čistých prostorách a před zabalením jsou ještě chemicky čištěné. Hotové rámečky se dodávají s tloušťkami 200 a 100 nm. Balení obsahuje 10 nebo 25 ks podložních membrán v trezorku na TEM síťky.

Zobrazení:
strana 1 2 3 4 Další strana z celkem 114 produktů



napište nám

Ověřovací kód

newsletter

Budeme Vám posílat naše aktuality e-mailem!