Kategorie produktů

Main menu

S169-13H Silicon monoxide on removable Formvar on 300 mesh Cu grid, 25 ks/bal

5 561 CZK / ks
bez DPH 4 596 CZK

Nákupem tohoto produktu získáte 0 kreditů.

Dostupnost: Na objednávku - 4 týdny

Značka: AGAR3

Záruka: 24

Kód produktu: S169-13H

S169-13H Silicon monoxide on removable Formvar on 300 mesh Cu grid, 25 ks/bal

Silicon monoxide support films jsou pružné a jsou schopné snášet náročnější způsoby přípravy vzorků. Jsou excelentní pro práce při vysokém rozlišení, mají nízký kontrast pozadí a jsou stabilní při působení elektronového svazku. Navíc jsou méně hydrofobní než uhlíkové filmy. Stejně jako ultra tenké uhlíkové filmy mají odstranitelnou pomocnou Formvarovou folii na opačné straně síťky pro zajištění vyšší výchozí stability. Formvar se odstraní ponořením do rozpouštědla. 

TECHNICKÉ PARAMETRY

Toto je místo pro Vaši jakoukoli otázku, nejasnost, nebo upřesnění k tomuto konkrétnímu produktu.

Ověřovací kód
Do košíku

Přihlášení nebo registrace

Růžena Hanžlová

Čechova 448/8, Písek, 397 01

e-mail: obchod.elmi@centrum.cz

telefon/ záznamník / fax: 382 272 210

IČ: 123 95 625 DIČ: CZ5558101846

Naše firma vznikla na počátku devadesátých let minulého století. Fungujeme stále ve stejném složení. Máme odborné zázemí dané několikaletou praxí operátora skenovacího elektronového mikroskopu a hlavně servisního pracovníka elektronových mikroskopů TEM i SEM japonské firmy Jeol s aktivní praxí v trvání téměř 30 let.

V současnosti dodáváme zboží, které mají v nabídce firmy Agar (UK), Plano (DE), Graticules Optics Ltd - dříve PYSER (UK) a Micro to Nano (NL). Jsme neustále v kontaktu i s ostatními výrobci a dodavateli spotřebního materiálu a pomůcek pro všechny obory mikroskopie a portfolio spolupracujících firem se snažíme neustále rozšiřovat.

Zboží můžete vybírat z katalogu pomocí menu a jeho podkategorií. Dále si můžete vyfiltrovat zboží pomocí volby výrobce, dodavatele, nebo přímo vyhledáním konkrétního zboží pomocí vyhledávacího okénka. Zboží si také můžete seřadit podle různých kriterií.

Vytváří StudioMC na systému PublicMC s podporou MediaMC | © PublicMC 2005 - 2024